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长沙创芯集成电路科技园

长沙创芯集成电路科技园项目位于长沙县经开区,由四栋厂房及综合楼组成,其中101#芯片生产厂房,总建筑面积达36752平方米,建筑高度为23.4米,结构形式为钢结构多层工业厂房,钢结构屋架跨度为76米,B 区二层楼板为新型材料华夫板,面积达5500平方米。

项目名称:长沙创芯集成电路科技园项目

项目业主:创芯集成电路科技园

项目地址:长沙

用地面积: 5500平方米

总建筑面积: 36752平方米

项目进度:已完成

设计单位:湖南新望建筑工程有限公司/湖南尙筑建设工程有限公司



长沙创芯集成电路有限公司(Changsha Innovation Semiconductor Corp.)为外商独资企业,注册资金3100万美元,总投资金额3亿美元,位于湖南省长沙经济技术开发区黄兴大道东侧,人民东路和映霞路之间。
长沙创芯集成电路有限公司拥有完整的六英寸晶圆设备和生产技术,企业管理团队具有多年的海内外集成电路企业运营经验,是专门从事集成电路制造和工艺研发的高新科技企业。公司坚持以客户为导向,完善各项管理体系,提供晶圆生产代工服务,包括CMOS, Bipolar, BiCMOS, 平面和沟槽DMOS, BCDMOS, MASK ROM等标准工艺及一系列客制化工艺平台,如IGBT。
6英寸0.35μm功率及模拟集成电路芯片生产线设计产能6万片/月,第一阶段达产规模为3.5万片/月,为湖南首家开放式集成电路生产工厂,主要以0.35μm及以上的国际通用的标准工艺技术为主体流程,再依客户产品不同的需求,开发客制化工艺平台。产品包括:驱动IC、电源管理IC、混合讯号处理、RF IC及分立器件等,主要应用于电源控制类产品、各类电子产品的电源(家电、手机等)、智能电网、高铁、太阳能及转换、电动汽车等领域。